Products製品紹介

RE-3500

エリプソ式膜厚測定装置

RE-3500

Wafer size 125mm ~ 300mm

loT向け電子デバイスに対応した計測装置

特長

  1. 1. 微小エリア・高精度測定

    マイクロスポット光学系の採用により、40μm角の微細なエリアを高精度に測定します。

  2. 2. ハイスループット

    新開発光学ヘッドを搭載し、従来比2倍のハイスループットを実現しました。

  3. 3. 分光エリプソメータ搭載

    膜厚と光学定数の同時測定が可能。膜厚だけでなく、膜質の管理を行うことが重要な工程や、薄膜材料の開発、成膜プロセス開発に適しています。

  4. 4. 単波長エリプソメータ搭載可能(オプション)

    膜厚20nm以下の超薄膜を高精度で測定可能な単波長エリプソメータ(オプション)も搭載可能です。光源に長寿命タイプのレーザーダイオードを採用しており、大幅にランニングコストを削減します。

測定ヘッドの得意領域
※SWE Single Wavelength Ellipsometer 単波長エリプソメータ
※SE Spectroscopic Ellipsometer 分光エリプソメータ
※SR Spectroscopic Reflectometer 光干渉式膜厚計

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